| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (10) mit einem Laser (1), wobei im Strahlengang des aus dem Laser (1) austretenden Laserstrahls (2) zwischen dem Laser (1) und einem fokussierenden Element (4) eine Amplitudenmaske (3) eingebracht ist. Die Amplitudenmaske (3) weist vorzugsweise mindestens ein Gebiet, bevorzugt in Form eines oder mehrerer Ringe, auf, wobei die Transmission des mindestens einen Gebiets geringer ist als die Transmission der Bereiche auf der Amplitudenmaske (3) außerhalb des mindestens einen Gebiets, abgesehen von einem sich außerhalb des Laserstrahls befindlichen Rand der Amplitudenmaske (3). Die Erfindung betrifft die Verwendung der optischen Anordnung zur Modifikation der räumlichen Intensitätsverteilung im Fokus (6) oder in einem Nebenmaxima (7, 7') des Laserstrahls (2) in einem dem Laserstrahl (2) ausgesetzten Material (5) oder als Strahlungsquelle in einer optischen Pinzette.
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