发明名称 高纯度(氟烷基)苯衍生物及其制备方法
摘要 本发明的(氟烷基)苯衍生物的制备方法包含下述的工序:使烷基苯衍生物中的3族~12族过渡金属的原子换算总量在500ppm以下的工序;通过光卤化反应使前述精制烷基苯衍生物侧链烷基卤化,得到(卤烷基)苯衍生物的工序;以及使用相对于前述(卤烷基)苯衍生物为10摩尔以上的HF,进行卤素-氟置换反应,得到(氟烷基)苯衍生物的工序。通过上述方法制备的(氟烷基)苯衍生物减小了作为杂质残留的卤素类和残留金属的含量,是一种作为医药、电子材料用途等功能化学品中间体有用的化合物。
申请公布号 CN1653029A 申请公布日期 2005.08.10
申请号 CN03811283.3 申请日期 2003.04.24
申请人 三菱瓦斯化学株式会社 发明人 日高敏雄;伏见则夫;吉村贵史;川合建
分类号 C07C51/363;C07C63/70;C07C67/307;C07C69/76;C07C45/63;C07C47/55;C07C29/62;C07C33/46;C07C37/62;C07C39/24;C07B39/00;C07C211/52;C07C209/68;C07C253/30;C07C255/50;C07C231/12;C07C233/65;C07C63/72 主分类号 C07C51/363
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 陈昕
主权项 1.一种制备如下述(2)式所示的(氟烷基)苯衍生物的方法,其特征在于包含下述的工序:使下述(1)式所示的烷基苯衍生物中的3族~12族过渡金属的原子换算总量在500ppm以下的工序;使用氟以外的卤素,通过光卤化反应使前述精制的烷基苯衍生物上的前述至少一个烷基卤化工序;然后相对于得到的1摩尔(卤烷基)苯衍生物,使用10摩尔以上的HF进行卤素-氟置换反应的工序,<img file="A038112830002C1.GIF" wi="534" he="268" />其中X<sup>1</sup>表示氢原子、羟基、烷基、芳基、卤原子(含氟原子)、甲酰基、羧酸基、硝基、氰基、氨基、羟甲基、氨甲基、氨基甲酰基、磺酸基或卤代羰基(含氟原子),进一步还表示各自可具有取代基的烷氧基羰基、烷基羰基、芳基羰基、烷氧基或芳氧基;R<sup>1</sup>表示羧酸基、卤代羰基(含氟原子)、烷氧基羰基、芳氧基羰基、可具有取代基的烷基或可具有取代基的芳基;n表示1~5的整数,当n为2~5时,多个R<sup>1</sup>可以相同或不同;但是R<sup>1</sup>中的至少一个为烷基,<img file="A038112830002C2.GIF" wi="533" he="271" />其中X<sup>2</sup>对应于(1)式的X<sup>1</sup>,表示氢原子、羟基、氟烷基、芳基、卤原子(含氟原子)、甲酰基、氟羰基、硝基、氰基、氨基、羟基氟甲基、氨基氟甲基、氨基甲酰基、或磺酰氟基,进一步还表示各自可具有取代基的氟烷氧基羰基、氟烷基羰基、芳基羰基、氟烷氧基或芳氧基;R<sup>2</sup>对应于(1)式的R<sup>1</sup>,表示氟羰基、氟烷氧基羰基、芳氧基羰基、可具有取代基的氟烷基或可具有取代基的芳基;n和前述同样,当n为2~5时,多个R<sup>2</sup>可以相同或不同;但是R<sup>2</sup>中的至少一个为氟烷基。
地址 日本东京