| 发明名称 | 改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法 | ||
| 摘要 | 公开了一种改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法。一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。 | ||
| 申请公布号 | CN101634813A | 申请公布日期 | 2010.01.27 |
| 申请号 | CN200910164158.1 | 申请日期 | 2005.10.11 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 金淏哲 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李 佳;穆德骏 |
| 主权项 | 1.一种组合偏振改进照明系统，用于利用来自光源的光照射光掩模，其中照明系统包括：相对于光基本不透明的遮蔽区和多个限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区，所述光传输区相对于光基本透明并且包括分别在不同方向上偏振入射于其上的光的偏振器。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416番地 | ||