发明名称 掩膜板及其制作方法
摘要 本发明实施例提供了一种掩膜板及其制作方法,属于有机电致发光器件制造领域,以提高蒸镀过程中形成的图形质量。所述掩模板,包括图案区域以及所述图案区域外围的辅助区域,并且所述辅助区域中的至少一部分区域的厚度大于所述图案区域的厚度。本发明可用于有机电致发光器件的制造中。
申请公布号 CN103713466B 申请公布日期 2016.05.11
申请号 CN201310745048.0 申请日期 2013.12.30
申请人 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 发明人 陈俊生
分类号 G03F1/38(2012.01)I 主分类号 G03F1/38(2012.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 赵丹
主权项 一种掩模板,其特征在于,包括片材,所述片材上一体形成有图案区域以及所述图案区域外围的辅助区域,并且所述辅助区域中的至少一部分区域的厚度大于所述图案区域的厚度。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号