| 摘要 |
본 발명은 기판을 세정 및 건조 처리하는 장치 및 방법를 제공한다. 기판처리장치는 내부에 공정이 진행되는 처리공간을 제공하는 챔버 및 상기 처리공간에 온도 또는 습도가 조절된 에어를 공급하는 기체공급유닛을 포함하되, 상기 기체공급유닛은 내부에 버퍼공간이 제공되는 버퍼부, 상기 버퍼공간에 청정에어를 유입하는 유입포트, 상기 버퍼공간에 제공된 청정에어의 습도를 조절하는 습도조절부재, 그리고 상기 버퍼공간에서 습도가 조절된 청정에어를 상기 챔버에 송풍하는 팬을 포함하되, 상기 습도조절부재는 상기 버퍼공간에 건조에어를 공급하는 건조에어공급부 및 상기 버퍼공간에 공급되는 건조에어의 유량을 조절하는 조절밸브를 포함한다. 이로 인해 챔버 내에 온도 또는 습도가 조절된 에어를 제공하여 기판에 워터마크가 발생하는 것을 방지할 수 있다. |
