用于射频物理气相沉积的处理套组

摘要

本发明的实施例大体上涉及半导体处理室的处理套组，以及具有套组的半导体处理室。更具体地，本发明的实施例涉及到处理套组，其包括用于物理沉积室的盖环、屏蔽、隔离器。该处理套组的组件可独立地及结合地运作，以大幅减少粒子的产生和杂散等离子体。现有的多部分屏蔽提供延伸的射频返回路径，其造成引起处理腔外杂散等离子体的射频谐波。相较之下，本发明的处理套组的组件减少射频返回路径，因此在内部处理区域提供改进的等离子体包容。

主权项

一种包围溅射靶材的溅射表面的屏蔽，其中所述溅射靶材面向基板处理室中的基板支撑，所述屏蔽包括：圆柱形外环带，其具有第一直径，其尺寸为包围所述溅射靶材的所述溅射表面，所述圆柱形外环带具有：顶端，其尺寸为包围所述溅射表面；和底端，其尺寸为包围所述基板支撑，倾斜阶，其具有第二直径，所述第二直径大于所述第一直径，所述倾斜阶从所述圆柱形外环带的所述顶端径向向外延伸；固定凸缘，其从所述倾斜阶径向向外延伸；基盘，其从所述圆柱形环的所述底端径向向内延伸；及圆柱形内环带，其连接所述基板，且大小为包围所述基板支撑的周边。