| 发明名称 | 阵列基板及其制备方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，属于显示设备技术领域，其可解决现有的阵列基板中的有机绝缘层容易引起其他结构不良的问题。本发明的阵列基板包括绝缘层，所述绝缘层中设有开口，且所述绝缘层包括：第一绝缘层；设于第一绝缘层上的第二绝缘层，开口处所述第二绝缘层的坡度角小于第一绝缘层的坡度角。 | ||
| 申请公布号 | CN104766869A | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201510161244.2 | 申请日期 | 2015.04.07 |
| 申请人 | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张敏;操彬彬 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L23/528(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括绝缘层，所述绝缘层中设有开口，其特征在于，所述绝缘层包括：第一绝缘层；设于第一绝缘层上的第二绝缘层，开口处所述第二绝缘层的坡度角小于第一绝缘层的坡度角。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市新站区工业园内 | ||