| 发明名称 | 用于半导体密封材料的炭黑着色剂及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种适用于半导体密封材料的黑色着色剂的炭黑着色剂及其制造方法，该炭黑着色剂在树脂组分中表现出优异的分散性，且能够形成具有高体积电阻率和优异遮蔽特性的半导体密封材料。该炭黑着色剂具有如下结构，通过使用过硫酸钠或过硫酸铵的湿氧化在炭黑颗粒表面上形成的羧基的末端氢被氨取代，且pH为3.0至8.0。该方法包括，将炭黑在过硫酸钠水溶液或过硫酸铵水溶液中进行湿氧化，通过去离子作用除去还原盐，加入氨水溶液以调节浆液的pH为4.0至12.0，引起炭黑与氨反应，通过从浆液中除去杂质而纯化浆液，并将炭黑干燥及磨碎。优选在湿氧化前，将炭黑预先经干氧化，且当对炭黑进行湿氧化时加入表面活性剂。 | ||
| 申请公布号 | CN101001925A | 申请公布日期 | 2007.07.18 |
| 申请号 | CN200580026974.6 | 申请日期 | 2005.08.10 |
| 申请人 | 东海碳素株式会社 | 发明人 | 户田繁美 |
| 分类号 | C09C1/56(2006.01);H01L23/29(2006.01);C09C3/06(2006.01);H01L23/31(2006.01);C09K3/10(2006.01) | 主分类号 | C09C1/56(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 吴小瑛 |
| 主权项 | 1、一种用于半导体密封材料的炭黑着色剂，所述的炭黑着色剂具有一种结构，其中氨取代了通过使用过硫酸钠或过硫酸铵的湿氧化在炭黑颗粒表面上形成的羧基的末端氢，且pH为3.0至8.0。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||