发明名称 超声波清洗组件
摘要 在此公开一种超声波清洗组件。该超声波清洗组件包括:振动器,该振动器具有压电元件,该压电元件安装在所述振动器内,以通过所述压电元件的振动产生超声波;具有逐渐减小的尺寸以集中由所述振动器产生的纵向超声波的第一振动杆;以及用于使所述第一振动杆产生的纵向超声波沿横向前进的第二振动杆。所述第二振动杆的与所述第一振动杆连接的一侧的尺寸小于所述第二振动杆的另一侧的尺寸,从而防止所述纵向超声波影响晶片。
申请公布号 CN101516534A 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200780035381.5 申请日期 2007.08.13
申请人 韩国机械研究院 发明人 李阳来;林义洙;金贤世
分类号 B08B3/12(2006.01)I 主分类号 B08B3/12(2006.01)I
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 代理人 周建秋;王凤桐
主权项 1.一种超声波清洗组件,该组件包括:振动器,该振动器用于产生超声波;第一振动杆,该第一振动杆的直径逐渐减小,以集中由所述振动器产生的超声波,所述第一振动杆垂直地定位在需要清洗的半导体晶片的上方,使得所述第一振动杆与所述半导体晶片的一个主表面以预定的距离间隔开,从而使所述超声波沿纵向前进;以及第二振动杆,该第二振动杆连接到所述第一振动杆的一侧,使得所述第二振动杆垂直于所述第一振动杆,以使纵向超声波在施加到所述半导体晶片的表面上的清洗液体上沿横向前进,从而使杂质从所述半导体晶片上分离,其中:所述第二振动杆的与所述第一振动杆连接的一侧的尺寸小于所述第二振动杆的另一侧的尺寸,从而防止所述纵向超声波影响所述清洗液体。
地址 韩国大田广域市