发明名称 感光性树脂组成物,使用该组成物之感光性元件、阻剂图形制造法、阻剂图形及阻剂图形之积层基板
摘要 本发明揭示含有(A)感光性树脂组成物(B)光聚合启始剂、以及(C)难燃剂而制成之感光性树脂组成物,其中上述难燃剂化合物内之卤素原子或锑原子之含量系在5重量%以下者。本发明并揭示使用该感光性树脂组成物之感光性元件、阻剂图形之制造法,阻剂图形以及阻剂图形之积层基板。
申请公布号 TWI258634 申请公布日期 2006.07.21
申请号 TW089122156 申请日期 2000.10.21
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 佐藤邦明;沓名贵彦;吉野利纯;平山隆雄;鹈泽干夫
分类号 G03F7/004;C08L61/34;C08L61/28;C08L101/12 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种感光性树脂组成物,系含有(A)具有感光性基 之感光性树脂、(B)光聚合启始剂、以及(C)难燃剂 而制成,且上述(C)难燃剂系至少一种选自 (C1)锌化合物、 (C2)有机氮系化合物与(C3)金属氢氧化合物之组合 、及 (C2)有机氮系化合物与(C3)金属氢氧化物与(C4)有机 磷系化合物之组合所成组群者,且对组成物之总量 而言,上述(A)成份之配合量为10至90重量%、上述(B) 成份之配合量为0.5至20重量%、且若含有上述(C1)成 份时其配合量为0.5至20重量%,含有上述(C2)成份时, 其配合量为0.2至10重量%;而含有上述(C3)成份时,其 配合量为5至50重量%;含有上述(C4)成份时,其配合量 为2至50重量%,上述难燃剂化合物中之卤素原子或 锑原子之含量系在5重量%以下,且上述(C2)有机氮系 化合物,系于一分子之内具有至少三个氮原子且具 有六员环构造之三系化合物者。 2.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,系于 厚度0.3毫米之无卤素铜面积层板之两面各形成厚 度50微米之感光性树脂组成物层之积层板,其依据 UL94V之规格的难燃性,满足UL94V-0或者V-1之标准者。 3.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述(C1)锌化合物系由酸以及锌所合成之化合物者 。 4.如申请专利范围第3项之感光性树脂组成物,其中 上述之酸系选自由钼酸,磷酸,六氢氧锡酸,锡酸以 及硼酸所成之群组者。 5.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述(C1)锌化合物系选自由钼酸钙锌,钼酸锌,氧化 锌,磷酸锌,六氢氧锡酸锌,锡酸锌以及硼酸锌所成 之群组者。 6.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述三系化合物系具有如一般式(Ia)以及一般式 (Ib)所示重复单元或具有如一般式(Ic)以及一般式( Id)所示重复单元之三聚氰胺酚化合物者, (式中,R示二价之有机基), (式中,R'示二价之有机基,Z示-NH2、 或碳原子数6至18之芳基), (式中,R1示氢原子或甲基), (式中,Z与上述一般式(1b)中之Z同)。 7.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述三系化合物系如一般式(II)所示之三聚氰胺 丙烯酸酯化合物者, (式中,六个A各自分别示(甲基)丙烯醯基,六个R2各 自分别示二价之有机基)。 8.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述三系化合物系一般式(III)、(IV)、(VII)、(VIII )或(IX)所示之三衍生物者: (式中,R3示碳原子数1至10之一价脂肪族基,或碳原 子数6至18之芳基); (式中,R4示碳原子数1至10之二价脂肪族基或碳原子 数6至18之伸芳基); (式中,六个R8系各自分别示碳原子数1至10之烷基); (式中,m1至m6系各自分别为0,1或2, (m1+m2)=(m3+m4)=(m5+m6)=2); (式中,六个R5系各自分别与上述一般式(V)中之R5同) 。 9.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其中 上述三系化合物系如一般式(V)或(VI)所示之三聚 异氰酸脂衍生物者: (式中,三个R5系各自分别示氢原子或甲基); (式中,三个R6系各自分别示氢原子或甲基,三个R7系 各自分别示碳原子数1至10之伸烷基)。 10.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中上述三系化合物系选自由1,3,5-三胺基三与 甲醛之共聚物的三聚氰胺甲醛树脂,1,3,5-三胺基三 与磷酸之共聚物的三聚氰胺磷酸酯化合物,1,3,5- 三胺基三与焦磷酸之化合物,硫酸-2-三聚氰胺, 苯并鸟粪胺与甲醛之共聚物的三聚氰胺树脂,聚磷 酸三聚氰胺以及三缩水甘油三聚异氰酸酯所成之 群组者。 11.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中上述三系化合物系1,3,5-三胺基三者。 12.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中(C3)金属氢氧化物,系选自由氢氧化铝,氢氧化镁, 氢氧化铝镁碳酸盐水合物,氢氧化镍,氢氧化钛以 及氢氧化铟所成之群组者。 13.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中(C4)有机磷系化合物 系选自由一般式(X): (式中,R9至R25系各自分别为氢原子或碳原子数1至10 之烷基,W示单键、碳原子数在1至10之伸烷基、-S- 、-SO2-、-O-、-CO-、或者-N=N-,n1系1以上之整数)所示 之磷酸酯系化合物、一般式(XI): (式中R26至R41系各自分别为氢原子或碳原子数1至10 之烷基,n2系1以上之整数)所示之磷酸酯系化合物 、以及含磷环氧树脂所成之群组者。 14.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中进而含有(D)硬化剂者。 15.如申请专利范围第14项之感光性树脂组成物,其 中上述(D)成份之配合量相对于组成物之总量系2至 50重量%者。 16.如申请专利范围第1项之感光性树脂组成物,其 中上述(A)感光性树脂,系(a1)环氧树脂及(a2)含有不 饱和基之单羧酸的反应生成物,与(a3)含有饱和或 不饱和基之多元酸酐反应而制得者。 17.如申请专利范围第16项之感光性树脂组成物,其 中上述(a1)环氧树脂,系选自由清漆型环氧树脂、 双酚型环氧树脂、水杨醛型环氧树脂、以及橡胶 改质环氧树脂所成之群组者。 18.一种感光性元件,系于支撑体上形成由申请专利 范围第1至17项中任一项之感光性树脂组成物所构 成之阻剂层而成者。 19.一种阻剂图形之制造法,系包括以下步骤者: i)将含有由申请专利范围第1至17项中任一项之感 光性树脂组成物构成之阻剂层积层于基板上之步 骤; ii)以活性光线进行成像照射,使上述阻剂层之曝光 部份光硬化之步骤; iii)将上述阻剂层之未曝光部份藉由显像进行选择 性去除之阻剂图形形成步骤。 20.一种阻剂图形,系以申请专利范围第19项之阻剂 图形制造法制得者。 21.一种阻剂图形之积层基板,系于基板上将利用由 申请专利范围第1至17项中任一项之感光性树脂组 成物所构成之阻剂层制得之阻剂图形加以积层而 成者。 图式简单说明: 第1A图系感光性元件之一实施例之示意图。 第2A至2C图系阻剂图形之制造法的一步骤例之示意 图。
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